作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2023-03-29
真空鍍膜技術(shù)是一種先進的表面處理技術(shù)，廣泛應(yīng)用于各個領(lǐng)域。在真空鍍膜過程中，電源的質(zhì)量和性能對鍍膜質(zhì)量和效率具有非常重要的影響。因此，選擇合適的電源對于實現(xiàn)高質(zhì)量、高效率的表面處理至關(guān)重要。真空鍍膜電源是指在真空環(huán)境中使用的特殊電源，通常分為三類。
第一類是電弧源電源。這種電源使用弧放電來產(chǎn)生高溫等離子體，將加熱材料蒸發(fā)成蒸氣，使其沉積在目標表面上以形成涂層。電弧源電源通常具有高能量密度和高效率，適用于鍍膜材料較難揮發(fā)的情況下，如金屬、陶瓷等。電弧源電源還可以用于合成新材料，例如合成晶體和金屬非晶體。
第二類是陰極濺射電源。在這種電源中，金屬或合金靶材被加熱并離子化，離子擊中材料表面并在其上沉積，在單晶、薄膜、多層膜的生長過程中廣泛應(yīng)用。陰極濺射電源優(yōu)點在于產(chǎn)生高質(zhì)量的膜層，具有穩(wěn)定性和可重復性強等特點。它可以在高真空、大氣壓等條件下操作，是制備薄膜、電路、太陽電池等的重要工具。
第三類是離子束濺射電源。與陰極濺射相比，這種電源可以產(chǎn)生更高的能量密度，產(chǎn)生的薄膜具有更高的質(zhì)量和致密性。離子束濺射被應(yīng)用于制造太赫茲和紅外線傳感器、反射和抗反射涂層等。它還可以在多種材料上安裝，如氧化物、硅、金屬和半導體，具有出色的鍍膜效果。
總之，根據(jù)不同的應(yīng)用需求，選擇具有適當電源的真空鍍膜工藝可以獲得更好的經(jīng)濟效益和技術(shù)性能。
