作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2023-03-31
真空鍍膜技術已成為電子、光電、機械等行業(yè)中不可或缺的制造工藝。它通過在材料表面上蒸發(fā)或離子鍍等方法將薄膜沉積在基材上，使其表面具有不同的光學、電學、熱學、機械等特性。而真空鍍膜靶材則是實現(xiàn)該過程的重要元素之一。
真空鍍膜靶材在制造工藝中扮演著至關重要的角色，其種類多樣，可根據基板性質和鍍膜要求選用不同的材料。其主要分類包括：
1. 金屬靶材：如鉻、銅、鋁、鈦、鐵、銀等，在制造薄膜光學鏡片、太陽能電池等方面廣泛應用。
2. 濺射陶瓷靶材：如氧化物、碳化物、硫化物等，可用于制造保溫層、摩擦材料、傳熱材料等。
3. 光學薄膜靶材：如氧化物、氟化物、貴金屬、稀土元素等，用于制造高性能光學器件。
4. 復合靶材：將不同材料制成復合靶材，可用于制造多層膜、防反射膜等。
以上是常見的幾種真空鍍膜靶材，不同的材料在制造過程中會有不同的反應機制和反應速度，進而影響到薄膜的質量和厚度均勻度。因此，在選擇靶材時需根據具體的產品要求和生產工藝來選擇，以保證薄膜鍍層的質量和穩(wěn)定性。
