真空鍍膜技術(shù)是一種重要的表面處理工藝，可對金屬、玻璃、陶瓷等材料進行各種方式的表面處理，得到高硬度、高附著力、高韌性、耐腐蝕和耐磨損性等各種要求的表面。

真空鍍膜技術(shù)具有以下優(yōu)勢：

1)真空度高，使各種材料在鍍膜過程中不會產(chǎn)生污染，對環(huán)境保護起到了重要作用。

2)鍍膜工藝成熟，生產(chǎn)效率高，所用設(shè)備價格低。

3)可對表面進行精細加工，如拋光、氧化、電鍍等。

4)可進行鍍覆多種金屬或合金，如：鍍銅、鍍鈦等等。

5)鍍膜過程可在密閉空間進行，易于控制。

6)鍍膜過程中可控制靶材成分，得到不同成分的鍍膜材料。

一、鍍前準備

1.材料表面清潔：一般可采用清洗、吹干或噴濕等方法將表面的油脂、灰塵等除去，再用水或酒精清洗，以清除指紋痕跡。

2.檢查工件：對需要鍍覆的工件，在鍍膜前應(yīng)仔細檢查其尺寸是否符合要求，有無變形及氣孔。如發(fā)現(xiàn)缺陷應(yīng)及時處理。

3.表面預(yù)處理：真空鍍膜前需對工件進行表面預(yù)處理，以保證其鍍覆效果。具體方法有：

（1）化學(xué)處理：用化學(xué)方法如酸洗、堿洗等方法對工件進行表面預(yù)處理。

（2）機械加工：利用機械方法將工件上的毛刺、溝槽、裂紋等缺陷消除或磨平。

（3）拋光：利用拋光方法使工件表面變得平滑。

4.靶材制備是真空鍍膜工藝中的關(guān)鍵工序，其質(zhì)量直接影響到鍍膜的效果，因此需要格外注意。

二、鍍膜

1.靶材制備：一般采用直流電弧離子濺射法，濺射靶材純度應(yīng)大于99.99%，靶材的直徑小于5 mm，濺射時應(yīng)保持氣壓穩(wěn)定在0.5~0.6 Pa。濺射功率應(yīng)保持在15~25W/cm2,鍍膜溫度以200℃~250℃為宜。

2.鍍膜：真空鍍膜一般分為：真空蒸發(fā)、離子鍍、磁控濺射、噴霧蒸鍍、反應(yīng)濺射等幾種方法。常用的真空蒸發(fā)方法有：真空蒸發(fā)（又稱氣體蒸鍍，包括電弧離子蒸鍍和磁控濺射）、反應(yīng)離子鍍膜。常用的離子鍍膜方法有：化學(xué)氣相沉積法（CVD）和物理氣相沉積法（PVD）。其中 CVD和 PVD是主要的兩種鍍膜方法。

 CVD是在真空中進行的蒸發(fā)、濺射，常用于金屬與非金屬材料的鍍覆； PVD是在直流或射頻下進行的蒸發(fā)，常用于金屬與非金屬材料的鍍覆。兩種鍍膜方法都可獲得具有特定結(jié)構(gòu)的薄膜，但 CVD工藝成本低、生產(chǎn)效率高，應(yīng)用較多。

三、清洗

清洗是保證鍍膜質(zhì)量的重要環(huán)節(jié)，也是保證真空鍍膜生產(chǎn)效率的重要環(huán)節(jié)。清洗可以采用溶劑清洗、堿性溶液清洗、超聲波清洗等方法。常用的溶劑有：丙酮、甲苯、乙醚、乙酸乙酯等。

1)丙酮：對鋁、鈦等材料有很強的親和力，但對其他金屬如銅等幾乎無親和力。丙酮可用于所有金屬表面的清潔，但不能用于非氧化膜表面。丙酮是一種容易揮發(fā)的液體，也是一種有機溶劑，使用時應(yīng)注意安全，以防著火。

2)甲苯：在有機溶劑中能溶解脂肪烴和芳香烴，但對鋁、鈦等金屬不起作用。

3)乙醚和乙烷：對銅有親和力，而對鋁無親和力。這是因為它們不能溶解玻璃和陶瓷，并且它們易揮發(fā)。在清洗前將容器浸泡在溶劑中至少2小時，以增強它們對鋁的親和力。同時在清洗時應(yīng)注意容器的密封。

4)酸性溶液：用酸（如乙酸）來清洗玻璃和陶瓷表面可達到理想效果，但只能用于玻璃和陶瓷表面。

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