作者:深圳市英能電氣有限公司
時間:2023-04-12
真空鍍膜技術是一種非常重要的工業(yè)制造技術,可以制造出各種物品的表面涂層,比如光學元件、電子元器件、汽車零部件等。在真空鍍膜過程中,電源扮演著非常重要的角色。改變電源可以改變沉積規(guī)則,從而調整涂層的性質和特性。
其中最常見的電源是離子源。離子源工作時,通過引入高能離子束使得沉積物表面的蒸發(fā)度增大,從而加快涂層沉積速度。但是,不同的離子源會產生不同類型的離子束,利用不同類型的離子束可以選擇性地促進或者限制某些化學反應,達到控制涂層性質的目的。
另外一個重要的電源是磁控濺射源。磁控濺射技術利用高能離子束轟擊靶材,使得靶材表面的原子釋放出來,形成噴射流,最終沉積在基底上。通過改變?yōu)R射源的大小、形狀、材料等參數(shù)可以調整噴射流的能量和強度,從而影響涂層的成分和微觀結構。
真空鍍膜電源可以通過改變離子種類、束粒子能量和強度、噴射流強度等手段,實現(xiàn)對涂層沉積速度、成分、結構等性質的精細調控,是真空鍍膜技術不可或缺的重要組成部分。
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