作者：深圳市英能電氣有限公司
時(shí)間：2023-04-17
脈沖磁控濺射是一種常用的薄膜制備技術(shù)，其具有高質(zhì)量、高純度、高密度及良好的控制性能等優(yōu)點(diǎn)。脈沖磁控濺射電源是把直流電源轉(zhuǎn)換成為高頻交流電源的一種特殊形式，利用交流電流在磁場(chǎng)作用下產(chǎn)生電子密集度高的等離子體，通過(guò)等離子體將靶材表面物質(zhì)抽離并沉積于襯底上，從而形成薄膜。
脈沖磁控濺射電源饒射性特點(diǎn)主要表現(xiàn)在以下幾方面：
1. 穩(wěn)定性好：脈沖磁控濺射電源可以產(chǎn)生高頻電流，這使得等離子體的穩(wěn)定性更好。同時(shí)，其具有較為精確的控制系統(tǒng)，可以保證濺射過(guò)程的穩(wěn)定性。
2. 濺射速率高：脈沖磁控濺射電源可以產(chǎn)生高功率的等離子體，從而使得濺射速率更快、效率更高。
3. 薄膜均勻性好：由于脈沖磁控濺射電源具有較好的穩(wěn)定性和高濺射速率，因此產(chǎn)生的等離子體能夠均勻地覆蓋靶材表面，使得形成的薄膜均勻性更好。
4. 系統(tǒng)組成簡(jiǎn)單：脈沖磁控濺射電源由直流電源轉(zhuǎn)換而來(lái)，因此其系統(tǒng)組成比傳統(tǒng)的高頻電源更為簡(jiǎn)單，便于維護(hù)和操作。
脈沖磁控濺射電源具有饒射性特點(diǎn)明顯，能夠滿足現(xiàn)代化薄膜制備技術(shù)對(duì)高品質(zhì)、高效率、高精度的要求。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，已獲得高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定，通過(guò)iso:認(rèn)證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線：180-2547-6062
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