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真空鍍膜濺射電源弧能量

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真空鍍膜濺射電源弧能量

作者:深圳市英能電氣有限公司

時(shí)間:2023-04-30

真空鍍膜濺射電源弧能量是指在真空鍍膜濺射過程中,產(chǎn)生的弧光能量大小。真空鍍膜濺射過程中,電極產(chǎn)生的弧光能量通過電子轟擊靶材表面,使靶材上的原子或分子從表面揮發(fā)并沉積到基材上形成薄膜?;」饽芰看笮≈苯佑绊懥顺练e薄膜的質(zhì)量和產(chǎn)量。

弧光能量的大小與真空鍍膜濺射電源的參數(shù)設(shè)置有關(guān),如電壓、電流、極間距等。在實(shí)際操作中,需要根據(jù)目標(biāo)薄膜的要求和設(shè)備的實(shí)際情況,合理調(diào)整真空鍍膜濺射電源的參數(shù),以達(dá)到最佳的弧光能量大小和沉積薄膜的質(zhì)量和產(chǎn)量


深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè),已獲得高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定,通過iso:認(rèn)證,擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線:180-2547-6062

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