作者:深圳市英能電氣有限公司
時(shí)間:2022-11-15
PVD (Physical Vapor Deposition) 即物理氣相沉積,分為:真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說的PVD鍍膜,指的就是真空離子鍍膜和真空濺射鍍;通常說的NCVM鍍膜,就是指真空蒸發(fā)鍍膜。使用到的電源主要有中頻磁控濺射電源、脈沖偏壓電源、單極性脈沖磁控濺射電源等。
真空蒸鍍基本原理:在真空條件下,使金屬、金屬合金等蒸發(fā),然后沉積在基體表面上,蒸發(fā)的方法常用電阻加熱,電子束轟擊鍍料,使蒸發(fā)成氣相,然后沉積在基體表面,歷史上,真空蒸鍍是PVD法中使用最早的技術(shù)。
濺射鍍膜基本原理:充氬(Ar)氣的真空條件下,使氬氣進(jìn)行輝光放電,這時(shí)氬(Ar)原子電離成氬離子(Ar),氬離子在電場力的作用下,加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材,靶材會(huì)被濺射出來而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子,一般采用輝光放電獲得,在l0-2Pa~10Pa范圍,所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中,易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞,使運(yùn)動(dòng)方向隨機(jī),沉積的膜易于均勻。
離子鍍基本原理:在真空條件下,采用某種等離子體電離技術(shù),使鍍料原子部分電離成離子,同時(shí)產(chǎn)生許多高能量的中性原子,在被鍍基體上加負(fù)偏壓。這樣在深度負(fù)偏壓的作用下,離子沉積于基體表面形成薄膜。
針對蒸發(fā)鍍膜技術(shù),我們有清洗工件表面的離子源電源;針對濺射鍍膜技術(shù)我司研發(fā)了中頻磁控濺射電源、脈沖偏壓電源、單極性脈沖磁控濺射電源;針對離子鍍膜技術(shù)我司精心設(shè)計(jì)了脈沖偏壓電源和雙極脈沖偏壓電源,能基本解決行業(yè)內(nèi)遇到的一些問題,有問題歡迎隨時(shí)了解咨詢,您的滿意是我們不皆的動(dòng)力。
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