作者：深圳市英能電氣有限公司
時(shí)間：2023-05-04
真空鍍膜電源頻率應(yīng)用在真空鍍膜設(shè)備中，主要用于提供穩(wěn)定的高頻電源。這種電源主要用于將金屬蒸發(fā)材料加熱并蒸發(fā)到真空腔室中，形成金屬薄膜。
頻率通常是20kHz到200kHz之間，高頻電源在真空鍍膜中起著關(guān)鍵作用。它不僅可以控制材料的蒸發(fā)速度和厚度，還可以確保鍍膜的均勻性和穩(wěn)定性。
高頻電源還可以控制鍍膜過程中的電弧放電現(xiàn)象。電弧放電可能會(huì)破壞材料表面，影響鍍膜的質(zhì)量。通過使用高頻電源，可以控制電弧放電現(xiàn)象并保持穩(wěn)定的鍍膜質(zhì)量。
此外，高頻電源還可以通過控制輸入功率，降低真空鍍膜設(shè)備的工作溫度，從而提高設(shè)備的能源效率。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，已獲得高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定，通過iso:認(rèn)證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線：180-2547-6062
