作者：深圳市英能電氣有限公司
時(shí)間：2023-05-10
真空磁控濺射技術(shù)（Magnetron sputtering）是一種利用較高能量的離子或中性粒子對(duì)固體靶材表面進(jìn)行沖擊、濺射出原子或離子，并在靶材表面或基材上形成一層薄膜的方法。在真空環(huán)境下，將靶材和基材放置于磁控濺射裝置中，通過(guò)加入較高能量的離子或中性粒子，使這些離子在靶材表面上擊中，將其擊出原子或離子。通過(guò)不斷地搜集，在基材上形成薄膜。這種濺射薄膜技術(shù)可以被用于廣泛的應(yīng)用程序中，比如微電子、光學(xué)、傳感器等應(yīng)用領(lǐng)域。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，已獲得高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定，通過(guò)iso:認(rèn)證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線：180-2547-6062
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