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電源頻率應(yīng)用及真空鍍膜機(jī)RF加熱原理知識(shí)

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電源頻率應(yīng)用及真空鍍膜機(jī)RF加熱原理知識(shí)

作者:深圳市英能電氣有限公司

時(shí)間:2023-05-22

電源頻率是指交流電源每秒鐘交變方向的次數(shù),一般電網(wǎng)為50Hz或60Hz,不同的國(guó)家和地區(qū)可能會(huì)有不同的頻率。在工業(yè)領(lǐng)域中,電源頻率有著廣泛的應(yīng)用,比如用于驅(qū)動(dòng)電機(jī)、加熱等方面。在真空鍍膜機(jī)中,RF加熱是一種常見(jiàn)的加熱方式。RF加熱是利用高頻電場(chǎng)使物質(zhì)分子振動(dòng)和摩擦而產(chǎn)生熱能,從而實(shí)現(xiàn)加熱目的的一種加熱方法。

真空鍍膜機(jī)的RF加熱原理是通過(guò)在真空室內(nèi)加入高頻電場(chǎng),使得電場(chǎng)的能量通過(guò)電極對(duì)膜層進(jìn)行輻射和傳遞。當(dāng)電極處于電場(chǎng)中時(shí),其會(huì)受到電磁感應(yīng)而發(fā)生震動(dòng),從而通過(guò)物理形變來(lái)將能量傳遞到膜層中,從而使整個(gè)物體表面得以均勻加熱。

對(duì)于真空鍍膜機(jī)而言,RF加熱原理具有高效、均勻、精確的特點(diǎn),同時(shí)還可以根據(jù)具體的實(shí)驗(yàn)需求來(lái)調(diào)整頻率和功率,實(shí)現(xiàn)對(duì)膜層的均勻加熱。除此之外,RF加熱還可以有效降低膜層的殘留氣體,從而提升真空度。

電源頻率和RF加熱原理在工業(yè)領(lǐng)域和真空鍍膜機(jī)中都有著重要的應(yīng)用,有效提升了生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。

  深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷(xiāo)售為一體的高科技企業(yè),主要產(chǎn)品:中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源,陽(yáng)極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源,HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證,擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線:137-1700-7958

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