作者：深圳市英能電氣有限公司
時(shí)間：2023-09-05
為了獲得理想的鍍層質(zhì)量和均勻性，一般會(huì)根據(jù)不同的靶材選擇不同的占空比。例如，在鍍金屬膜的過程中，通常要采用較低的占空比，以保證金屬沉積的均勻性和質(zhì)量。通過工藝的調(diào)節(jié)找到一個(gè)平衡點(diǎn)，既能滿足膜層品質(zhì)，又減少工件打火頻次，提高生產(chǎn)效率。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958
