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真空鍍膜中有幾種磁控濺射?

首頁(yè) 新聞中心 行業(yè)新聞 真空鍍膜中有幾種磁控濺射?

真空鍍膜中有幾種磁控濺射?

作者:深圳市英能電氣有限公司

時(shí)間:2022-05-10

對(duì)于直流磁控濺射中頻磁控濺射都是大家常見(jiàn)的濺射鍍膜工藝,但是對(duì)于熟悉的兩種濺射工藝存在著哪些區(qū)別,小編帶你走進(jìn)看看

1.直流(DC)磁控濺射

濺射與氣壓的關(guān)系 - 在一定范圍內(nèi)提高離化率(盡量小的壓強(qiáng)下維持高的離化率)、提高均勻性要增加壓強(qiáng)和保證薄膜純度、提高薄膜附著力要減小壓強(qiáng)的矛盾,產(chǎn)生一個(gè)平衡.

輝光放電直流濺射系統(tǒng)

特點(diǎn):提供一個(gè)額外的電子源,而不是從靶陰極獲得電子.實(shí)現(xiàn)低壓濺射(壓強(qiáng)小于0.1).

缺點(diǎn):難以在大塊扁平材料中均勻?yàn)R射,而且放電過(guò)程難以控制,進(jìn)而工藝重復(fù)性差.

2.中頻(MS)磁控濺射

中頻交流磁控濺射可用在單個(gè)陰極靶系統(tǒng)中,工業(yè)上一般使用孿生靶濺射系統(tǒng);靶材利用率最高可達(dá)70%以上,靶材有更長(zhǎng)的使用壽命,更快的濺射速率,杜絕靶材中毒現(xiàn)象.


針對(duì)兩種不同的濺射,我司能提供的直流磁控濺射電源中頻磁控濺射電源得到了廣大客戶(hù)的認(rèn)同和贊許,在做了同種電源嚴(yán)格的對(duì)比最終選擇我司電源,期待您的咨詢(xún)和了解,您的滿(mǎn)意是我們不竭的動(dòng)力。

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