作者:深圳市英能電氣有限公司
時間:2023-10-19
真空離子鍍和偏壓電源,在真空條件下,采用某種等離子體電離技術(shù),使鍍料原子部分電離成離子,同時產(chǎn)生許多高能量的中性原子,在被鍍基體上加負(fù)偏壓,這樣在深度負(fù)偏壓的作用下,離子沉積于基體表面形成薄膜,形成的膜層組織致密,厚度均勻,有高硬度、高耐磨性,耐腐蝕性等特點(diǎn),這種工藝應(yīng)用的范圍廣 ,適用于各種金屬、合金以及一些合成材料,甚至絕緣材料上均可鍍膜。離子鍍的膜層細(xì)密,精密度高,廣泛應(yīng)用在工具鍍、功能性鍍膜方面,在半導(dǎo)體,模具、刀具領(lǐng)域頗受歡迎,針對離子鍍,我們推薦脈沖偏壓電源,通過脈沖偏壓電源能有效提高離子轟擊工件表面的能量,促進(jìn)和改善薄膜生長,提高膜層結(jié)合力。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè),主要產(chǎn)品:中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源,陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源,HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證,擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線:137-1700-7958
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