作者：深圳市英能電氣有限公司
時(shí)間：2023-10-25
HIPIMS電源屬于高功率脈沖磁控濺射電源的一種，通過(guò)降低占空比到10%，在相同功率情況下，可以使得磁控濺射峰值電流大幅度的增加。在鍍膜工藝中，往往希望得到高的峰值電流和靶電壓，但這兩者往往是矛盾的，需要在工藝中綜合考慮。HIPIMS電源可調(diào)參數(shù)多，即使在相同占空比下，針對(duì)不同靶材，其脈沖寬度，占空比，靶電壓與峰值電流都會(huì)出現(xiàn)不同的特性，增加工藝控制手段的同時(shí)，也增加了優(yōu)化難度。隨著靶電壓的增加，峰值電流密度也會(huì)增加，但是在不同電壓段，峰值電流變化趨勢(shì)也不同。在長(zhǎng)脈寬下，金屬放電進(jìn)入自持放電模式，會(huì)降低濺射速度，但可以增加離子種類和數(shù)量，需要根據(jù)工藝要求擇優(yōu)選擇。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽(yáng)極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958
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