作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2023-11-09
真空鍍膜技術是一種高科技工藝，被廣泛應用于許多領域，如電子、光電、汽車、化學等。為了實現高品質的鍍膜效果，需要不同類型的電源來驅動不同的鍍膜材料。下面將介紹幾種常見的電源類型：
1. 直流磁控濺射電源：該電源采用直流磁控技術，對金屬靶材進行濺射，并將金屬原子沉積到被鍍物表面上。該電源可以獲得高強度的離子束，使濺射速率更高，獲得更高質量的鍍層。
2. 中頻磁控濺射電源：該電源可用于濺射多種金屬和非金屬材料。通過中頻電磁場加熱靶材，可以將材料蒸發(fā)，形成離子束束流。該電源適用于生產大型鍍膜設備，可以獲得高效的生產工藝。
3. 電弧離子鍍電源：該電源采用電弧放電技術，將長度約為1cm的金屬導電絲置于空氣中，形成電弧放電。通過電弧放電，材料被蒸發(fā)并離子化，可以形成高能離子束。該電源適用于鍍金、鍍鉻等金屬材料。
4. 等離子體增強化學氣相沉積電源：該電源采用等離子體放電技術，可以將氣態(tài)化學物質分解并形成反應物，通過沉積形成鍍層。由于可以獲得高能離子，使得金屬反應更徹底，從而形成質量更高、更穩(wěn)定的鍍膜。
以上是幾種電源類型簡介，每種電源類型都有各自的優(yōu)點和適用范圍。在真空鍍膜技術領域，電源類型選擇的正確與否將直接影響鍍層的質量和穩(wěn)定性。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產與銷售為一體的高科技企業(yè)，已獲得高新技術企業(yè)認定，通過iso:認證，擁有專利多份。產品已獲得ce、rohs認證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領域的解決方案。咨詢熱線：180-2547-6062
