作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2024-02-29
真空鍍膜電源控制沉積速率的主要方式是通過調(diào)節(jié)輸出的電流和電壓。這種電源通常具有高精度的電流和電壓控制功能，可以實現(xiàn)對鍍膜過程中沉積速率的精確控制。
具體來說，在真空鍍膜過程中，材料的沉積速率與蒸發(fā)源的溫度、蒸發(fā)材料的性質(zhì)、真空室內(nèi)的氣體壓力以及基底表面的溫度等因素有關(guān)。而真空鍍膜電源通過提供穩(wěn)定的負(fù)壓電場，可以控制蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率，從而進(jìn)一步控制沉積速率。
此外，真空鍍膜電源還可以與高頻電源配合使用，通過調(diào)節(jié)高頻電源和負(fù)壓直流電源的工作參數(shù)，可以實現(xiàn)對沉積速率更為精細(xì)的調(diào)節(jié)。高頻電源產(chǎn)生的高頻電場可以使材料以離子形式在真空室中沉積到基底表面上，而負(fù)壓直流電源則用來進(jìn)一步控制這些離子的沉積速率。
因此，通過對真空鍍膜電源輸出的電流和電壓進(jìn)行精確控制，可以有效地實現(xiàn)對沉積速率的控制，從而滿足不同應(yīng)用對薄膜厚度和質(zhì)量的需求。這種控制方式在光學(xué)、電子、太陽能等領(lǐng)域的應(yīng)用非常廣泛。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958
