作者：深圳市英能電氣有限公司
時(shí)間：2024-03-20
真空鍍膜電源控制沉積速率的方式主要是通過(guò)調(diào)節(jié)電源的輸出參數(shù)，如電壓、電流等來(lái)實(shí)現(xiàn)的。具體來(lái)說(shuō)，電源可以提供負(fù)壓電場(chǎng)，該電場(chǎng)可以控制鍍膜材料在真空鍍膜過(guò)程中的沉積速率。通過(guò)調(diào)節(jié)電源的工作參數(shù)，如輸出電壓和電流的大小，可以精確控制鍍膜材料的蒸發(fā)或?yàn)R射速率，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)沉積速率的控制。
此外，在真空鍍膜設(shè)備中，真空鍍膜電源通常與高頻電源配合使用。高頻電源用來(lái)產(chǎn)生高頻電場(chǎng)，使得材料以離子形式在真空室中沉積到基底表面上，而真空鍍膜電源(負(fù)壓直流電源)則用來(lái)控制沉積速率。通過(guò)合理調(diào)節(jié)高頻電源和真空鍍膜電源的工作參數(shù)，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜性質(zhì)(如沉積速率、薄膜厚度等)的控制和調(diào)節(jié)，從而滿足不同的應(yīng)用需求。
需要注意的是，具體的控制方式和參數(shù)設(shè)置可能因不同的設(shè)備和工藝而有所差異，因此在實(shí)際操作中需要根據(jù)具體情況進(jìn)行調(diào)整和優(yōu)化。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽(yáng)極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958
