作者：深圳市英能電氣有限公司
時(shí)間：2024-05-31
單極性脈沖磁控濺射電源主要用于金屬、合金及石墨等靶材鍍制金屬膜、碳膜和部分氧化物、氮化物及碳化物膜。
磁控濺射是物理氣相沉積(PVD)技術(shù)的一種，起步于上世紀(jì)70年代，憑借高速、低溫、環(huán)保、成膜速率高等特點(diǎn)，磁控濺射技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域日益擴(kuò)展，磁控濺射設(shè)備需求隨之釋放。磁控濺射設(shè)備可用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體、復(fù)合銅箔等材料，在集成電路、光電子器件、超導(dǎo)體、通信、太陽(yáng)能電池、平板顯示等領(lǐng)域應(yīng)用前景廣闊。
隨著相關(guān)技術(shù)的進(jìn)步和需求升級(jí)，磁控濺射設(shè)備將向著高精度、智能化、高效率方向升級(jí)。因此，單極性脈沖磁控濺射電源在這些領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷(xiāo)售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽(yáng)極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證，擁有專(zhuān)利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專(zhuān)注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958
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