作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2024-06-05
磁控濺射鍍膜是一種鍍膜技術，具體來說，它是將涂層材料作為靶陰極，利用氬離子轟擊靶材，產生陰極濺射，把靶材原子濺射到工件上形成沉積層的一種鍍膜技術。在這個過程中，涂層材料一直保持固態(tài)，不形成熔池。
磁控濺射鍍膜技術具有廣泛的應用領域，包括但不限于微電子領域、裝飾領域、機械加工行業(yè)、醫(yī)療領域和光學領域等。在微電子領域，它可以作為非熱式鍍膜技術，用于制備各種電子元件和半導體器件的薄膜材料，提高電子產品的性能和可靠性。在裝飾領域，它可以制備各種全反射膜及半透明膜等，提高產品的外觀質量和耐久性。在機械加工行業(yè)，它可以制備表面功能膜、超硬膜、自潤滑薄膜等，提高材料的表面性能。在醫(yī)療領域，它可以制備醫(yī)療制品的表面涂層，提高醫(yī)療制品的性能和可靠性。在光學領域，它可以制備光學薄膜，如增透膜、反射膜、濾光片等。
磁控濺射鍍膜的過程是在真空環(huán)境下進行的，首先將待鍍膜產品和鍍膜材料放置于磁控濺射鍍膜機內部的正負極兩面，然后抽空空氣并加入氣體，在電極之間加入電壓，使磁場發(fā)生作用。位于負極的鍍膜材質在整個作用下濺射出濺射原子，濺射原子覆蓋于基層的表面之上形成沉積，最終成為特定的膜。
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深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術企業(yè)、iso9001認證，擁有專利多份。產品已獲得ce、rohs認證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958
