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pvd鍍膜和電鍍的區(qū)別

作者:深圳市英能電氣有限公司

時間:2024-06-11

  PVD鍍膜(物理氣相沉積)與電鍍在多個方面存在顯著的差異。以下是一些主要的區(qū)別:

  原理與過程:

  PVD鍍膜:在真空條件下,采用物理方法將材料源(固體或液體)表面氣化成氣態(tài)原子或分子,或部分電離成離子,并通過低壓氣體(或等離子體)過程,在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜。這個過程包括鍍料的氣化、原子、分子或離子的遷移和在基體上的沉積。

  電鍍:則是通過電化學(xué)方法,在導(dǎo)電的基體表面上沉積一層金屬或合金的過程。電鍍過程中,基體作為陰極,金屬陽極在含有欲鍍金屬離子的電解液中,通電后,金屬離子在陰極表面放電沉積形成鍍層。

  特性與優(yōu)勢:

  PVD鍍膜:PVD鍍膜加工的膜層與基體表面結(jié)合力更大,硬度更高,耐磨與耐腐蝕性能更好。此外,PVD鍍膜可以鍍出的膜層顏色更多更漂亮,且不會產(chǎn)生污染物質(zhì),是一種綠色環(huán)保的工藝。然而,由于PVD電鍍是采用爐內(nèi)電鍍的,對電鍍產(chǎn)品尺寸有所限制。

  電鍍:電鍍可以在金屬材料上也可以在非金屬材料上進行,能鍍出各種金屬鍍層、二元合金、三元合金乃至于四元合金,還可以制作復(fù)合鍍層、納米材料等。電鍍產(chǎn)品的導(dǎo)電性可能會顯著增強,但電鍍過程中可能會產(chǎn)生廢液,對環(huán)境造成影響。

  應(yīng)用領(lǐng)域:

  PVD鍍膜:廣泛應(yīng)用于航空航天、電子、光學(xué)、機械、建筑、輕工、冶金、材料等領(lǐng)域,可制備具有耐磨、耐腐蝕、裝飾、導(dǎo)電、絕緣、光導(dǎo)、壓電、磁性、潤滑、超導(dǎo)等特性的膜層。

  電鍍:電鍍的應(yīng)用范圍也非常廣泛,包括汽車、電子、玩具、五金等行業(yè)。

  總結(jié)來說,PVD鍍膜和電鍍在原理、特性、優(yōu)勢和應(yīng)用領(lǐng)域等方面存在明顯的區(qū)別。在選擇使用哪種工藝時,需要根據(jù)具體的產(chǎn)品需求、環(huán)保要求、成本預(yù)算等因素進行綜合考慮。

  深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè),主要產(chǎn)品:中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源,陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源,HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證,擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線:137-1700-7958

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