作者:深圳市英能電氣有限公司
時(shí)間:2024-07-29
離子鍍弧源在鍍膜過(guò)程中,特別是在使用磁場(chǎng)輔助的真空電弧離子鍍(如多弧離子鍍)時(shí),磁場(chǎng)起到了至關(guān)重要的作用。這些作用主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面:
1. 弧斑運(yùn)動(dòng)和穩(wěn)定性
弧斑移動(dòng):在磁場(chǎng)作用下,陰極靶面上的弧斑運(yùn)動(dòng)變得更加復(fù)雜和動(dòng)態(tài)。磁場(chǎng)能夠改變弧斑的移動(dòng)軌跡,使其更加均勻地在靶面上移動(dòng),減少局部過(guò)熱和燒蝕現(xiàn)象。
穩(wěn)弧效果:適當(dāng)?shù)拇艌?chǎng)分布能夠增強(qiáng)電弧的穩(wěn)定性,防止電弧熄滅或產(chǎn)生不穩(wěn)定現(xiàn)象,從而保證鍍膜過(guò)程的連續(xù)性和穩(wěn)定性。
2. 等離子體特性
等離子體密度:磁場(chǎng)能夠增加等離子體的密度,使得更多的金屬離子被電離并參與到鍍膜過(guò)程中,提高鍍膜效率和質(zhì)量。
離子能量:通過(guò)調(diào)整磁場(chǎng)強(qiáng)度和分布,可以影響離子在電場(chǎng)中的加速過(guò)程,從而控制離子的能量分布,優(yōu)化鍍膜層的性能。
3. 鍍膜層質(zhì)量
膜層均勻性:磁場(chǎng)輔助下的離子鍍能夠改善鍍膜層的均勻性,減少膜層中的針孔、氣泡等缺陷,提高膜層的光潔度和致密度。
膜基結(jié)合力:磁場(chǎng)有助于增強(qiáng)膜層與基體之間的結(jié)合力,使得鍍膜層更加牢固地附著在基體上,提高產(chǎn)品的使用壽命和可靠性。
4. 具體影響機(jī)制
軸向磁場(chǎng):如研究所示,隨著軸向磁場(chǎng)強(qiáng)度的增大,薄膜表面大顆粒數(shù)、凹坑數(shù)不斷增多,薄膜粗糙度增大,但薄膜生長(zhǎng)速率也增大,膜層變得更加致密。此外,磁場(chǎng)還能改變薄膜的生長(zhǎng)取向和成分分布。
復(fù)合磁場(chǎng):在離子源的磁控中,常使用電磁線(xiàn)圈、永磁體等裝置產(chǎn)生復(fù)合磁場(chǎng)(如軸對(duì)稱(chēng)磁場(chǎng)、多模式旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)等),這些磁場(chǎng)能夠進(jìn)一步調(diào)控弧斑的運(yùn)動(dòng)和放電過(guò)程,優(yōu)化鍍膜效果。
5. 實(shí)際應(yīng)用
在設(shè)計(jì)陰極靶材時(shí),靶面的邊緣通常會(huì)設(shè)計(jì)一定的角度,以利用銳角法則限制弧斑的運(yùn)動(dòng),避免滅弧現(xiàn)象的發(fā)生。
磁場(chǎng)輔助下的真空電弧離子鍍技術(shù)已廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、裝飾和保護(hù)等多個(gè)領(lǐng)域,為各種材料的表面改性提供了有效手段。
綜上所述,離子鍍弧源在鍍膜磁場(chǎng)的作用下,通過(guò)調(diào)控弧斑運(yùn)動(dòng)、等離子體特性和鍍膜層質(zhì)量等方面,實(shí)現(xiàn)了高效、高質(zhì)量的鍍膜過(guò)程。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷(xiāo)售為一體的高科技企業(yè),主要產(chǎn)品:中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源,陽(yáng)極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源,HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證,擁有專(zhuān)利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專(zhuān)注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢(xún)熱線(xiàn):137-1700-7958
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