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真空鍍膜電源

首頁 新聞中心 行業(yè)新聞 直流磁控濺射電源的用途和特點(diǎn)

直流磁控濺射電源的用途和特點(diǎn)

作者:深圳市英能電氣有限公司

時(shí)間:2024-08-22

  直流磁控濺射電源在多個(gè)領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用和顯著的特點(diǎn)。以下是其用途和特點(diǎn)的詳細(xì)歸納:

  直流磁控濺射電源的用途

  薄膜制備:

  直流磁控濺射電源是科學(xué)研究和精密電子制造中常見的薄膜制備技術(shù)。它廣泛應(yīng)用于各種薄膜的制備,如金屬、半導(dǎo)體、合金、氧化物、化合物半導(dǎo)體等。

  該技術(shù)制備的鍍膜玻璃,可由多層金屬或金屬氧化物制成,允許能量通過率和反射率任意調(diào)節(jié),具有良好的美學(xué)效果,因此越來越多地應(yīng)用于現(xiàn)代建筑領(lǐng)域。

  工業(yè)應(yīng)用:

  直流磁控濺射電源技術(shù)廣泛應(yīng)用于玻璃、汽車、醫(yī)療衛(wèi)生、電子工業(yè)等行業(yè)和民生領(lǐng)域。

  在織物涂層領(lǐng)域,該技術(shù)可應(yīng)用于安全領(lǐng)域,如防觸電、電磁屏蔽和機(jī)器人防護(hù)織物等。

  它還可用于制造染料,在醫(yī)療保健、環(huán)境保護(hù)、電子工業(yè)等領(lǐng)域有著重要的應(yīng)用。

  技術(shù)結(jié)合:

  可適用于PVD(物理氣相沉積)、CVD(化學(xué)氣相沉積)技術(shù),以金屬、半導(dǎo)體靶材制備高密度、高硬度、高亮度、高透明度的單質(zhì)、化合物膜層。

  直流磁控濺射電源的特點(diǎn)

  高效性:

  直流磁控濺射電源通過磁鐵和線圈產(chǎn)生一個(gè)穩(wěn)定的磁場(chǎng),控制濺射電子的軌跡和能量,使其更加集中和穩(wěn)定地沉積在目標(biāo)表面上。這種技術(shù)具有濺射速率高、基片溫度低、膜層結(jié)合性良好、可實(shí)現(xiàn)大面積鍍膜等優(yōu)點(diǎn)。

  多功能性:

  采用先進(jìn)的逆變技術(shù)和IGBT功率開關(guān)器件設(shè)計(jì),具有恒流特性好、電源控制穩(wěn)定的特點(diǎn)。

  自動(dòng)恒流輸出,不隨氣壓變化,提高沉積速率,工藝重復(fù)性好。

  抑制靶材弧光放電及抗短路功能,內(nèi)置電子電抗,具有強(qiáng)的負(fù)載匹配能力。

  節(jié)能性:

  直流磁控濺射電源系統(tǒng)輕巧、高效、節(jié)能。同等功率比可控硅電源節(jié)約電能40%以上。

  穩(wěn)定性與模塊化:

  全系列產(chǎn)品風(fēng)冷長期穩(wěn)定性好,可N+1備份,保障安全生產(chǎn)。

  模塊化設(shè)計(jì),可根據(jù)用戶量身定做設(shè)計(jì)制造特種電源系統(tǒng)。

  操作便捷:

  工作模式多樣,恒壓、恒流、恒功率可任意選擇,常規(guī)恒流輸出。

  外部接口豐富,可設(shè)微機(jī)式PLC控制,便于集成和自動(dòng)化操作。

  綜上所述,直流磁控濺射電源因其廣泛的用途和顯著的特點(diǎn),在多個(gè)領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用,并隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步,其應(yīng)用前景將更加廣闊。

  深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè),主要產(chǎn)品:中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源,陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源,HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證,擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線:137-1700-7958。

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