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磁控濺射鍍膜工藝的優(yōu)勢

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磁控濺射鍍膜工藝的優(yōu)勢

作者:深圳市英能電氣有限公司

時間:2023-01-06

磁控濺射鍍膜技術相比其他的鍍膜工藝,能獲得更好的膜層組織,當然也離不開一款穩(wěn)定性更高的磁控濺射鍍膜電源,小編今天主要介紹磁控濺射鍍膜工藝的流程和優(yōu)勢。

磁控濺射鍍膜工藝首先安裝工件,然后預抽真空到6Pa,然后開啟擴散泵,本底真空度要到6*10-3,對工件進行烘烤加熱,然后通入氬氣,真空度要在2*10-1Pa~5*10-1 Pa。接通磁控濺射電源以后,靶電壓控制在300V-600V,氬氣被電離,產(chǎn)生陰極濺射作用,獲得膜層粒子。如果通入反映氣體就可以得到化合物膜,達到一定的厚度以后關閉濺射電源、偏壓電源、氮氣、氬氣,當工件低于100度的時候才可以充入大氣,取出工件。

磁控濺射可以鍍各種膜層,當工件是玻璃、陶瓷時只需要烘烤加熱,然后開啟磁控濺射電源,進行陰極濺射鍍膜,當工件為金屬材料時,工件要接負偏壓,濺射下來的原子在等離子體中被電離,得到的金屬離子在負偏壓的作用下到達工件,這個過程叫做磁控濺射離子鍍過程。如果通入氬氣獲得的是純金屬膜,通入的反應氣體獲得是化合物膜,叫反應磁控濺射,所以用磁控濺射可以鍍各種膜層。

磁控濺射鍍膜是在輝光放電中等離子體中進行的,膜層粒子由氬離子從陰極靶材上濺射到的。陰極靶材沒有熔池始終保持固態(tài),陰極靶材的位置可以隨意安放,可以水平安放也可以垂直安放,磁控濺射靶是個大面積鍍膜源,鍍膜均勻區(qū)大,不足就是平面靶材的利用率低,磁控濺射鍍的膜層更加細膩,裝飾效果更好。

上面提到要得到一個理想的鍍膜效果離不開一款好的鍍膜電源。英能是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射電源的廠家,在濺射鍍膜電源和偏壓電源方面的研究取得了卓越的成績,目前最常見的中頻磁控濺射電源、直流磁控濺射電源偏壓電源都展現(xiàn)出了極大的優(yōu)勢,有興趣可以撥打電話18025476062,期待您的來電咨詢和了解。

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