作者:深圳市英能電氣有限公司
時間:2022-11-29
中國.深圳
我們了解到有很多的高新技術(shù)產(chǎn)品都采用離子鍍膜技術(shù),什么是離子鍍膜技術(shù)呢?來了解離子鍍膜技術(shù)。離子鍍膜技術(shù)是在一般鍍膜技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來,先看下一般鍍膜的過程,一般鍍膜過程就是氣態(tài)物質(zhì)沉積在零件的表面,形成固態(tài)薄膜的過程,那氣態(tài)物質(zhì)如何來呢?一種是直接通入反應(yīng)氣體,一種是把固態(tài)物質(zhì)蒸發(fā)或濺射成膜層粒子,也就是氣態(tài)物質(zhì)沉積在工件表面形成固態(tài)。
離子鍍膜技術(shù)是怎樣呢?首先也要得到氣態(tài)膜層粒子,這些氣態(tài)膜層粒子不是直接到達零件的表面形成固態(tài)薄膜,而是首先膜層粒子在真空氣體放電中被電離成膜層離子,膜層離子在工件所加負壓的吸引下高速到達零件表面,高能態(tài)膜層粒子在零件表面形成固態(tài)薄膜的過程。濺射鍍膜是氬氣在真空鍍膜中被電離,氬離子轟擊靶材得到膜層原子,廣義離子鍍膜技術(shù)就是在氣體放電中進行鍍膜的技術(shù)都叫離子鍍膜技術(shù)。
首先來了解氣態(tài)物質(zhì)源的一般過程就是直接通入反應(yīng)氣體,以獲得氮化鈦薄膜為例,通入的氣體有四氯化鈦+氫氣+氮氣,最后生成固態(tài)物質(zhì)氮化鈦,排除氯化氫氣體,這種過程是要在1000度溫度下進行的,也就是要在1000度溫度下通入這些氣體才能進行熱分解,在反應(yīng)室內(nèi)1000度高溫提供了分解的能量,然后在1000度高溫工件上進行化合獲得氮化鈦固態(tài)膜層排除尾氣,這是一個用熱源提供的鍍膜的反應(yīng)過程,是一個化學(xué)過程,熱分解熱化合的過程,所以叫化學(xué)氣象沉積,英文名叫chemical vapor deposition,簡稱CVD。
固態(tài)物質(zhì)源的一般過程,是在高真空中,將固態(tài)物質(zhì)加熱蒸發(fā)成為蒸汽1000-2000,蒸汽源在高真空中飛向工件形成薄膜,屬于物理氣相沉積,簡稱PVD,這個示意圖是真空蒸發(fā)度,下面的是蒸發(fā)源,上面的是工件,膜層材料在蒸發(fā)源中被高溫蒸發(fā)出來,在高真空中飛向工件,在工件表面形成薄膜,所以這兩種薄膜形成的過程都是靠加熱提供的能量進行的鍍膜。
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