作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2022-12-14
在磁控濺射鍍膜行業(yè)中，大家對中頻電源再熟悉不過了，但是大家對中頻電源的應(yīng)用原理還不是太清楚，今天我們就來談?wù)?a href="http://nrxx.com.cn/productinfo1.html" target="_blank">中頻磁控濺射電源可以克服靶中毒，使反應(yīng)鍍膜速率加快的現(xiàn)象。
磁控濺射中的靶中毒就是在靶面上沉積了絕緣膜，所以氬離子不能進入陰極靶材，而且陽極上也沉積的絕緣膜，電子也達到不了陽極，產(chǎn)生了陽極消失現(xiàn)象。隨著絕緣膜的加厚，靶電壓突然降低，電流突然增大，產(chǎn)生打火現(xiàn)象，使鍍膜過程停止。這些現(xiàn)象中和為靶中毒現(xiàn)象。當(dāng)完全呈現(xiàn)靶中毒時，就很難恢復(fù)正常的磁控濺射過程。中頻電源可以消除靶中毒，是因為中頻電源的電極分別接在兩個孿生靶上，電子在兩個靶中間來回震蕩，電子到達了堆積了正離子的靶面時，電子可以和正離子中和，消除或減輕靶中毒，采用中頻電源要配孿生靶，所謂孿生靶也就是兩個臨近的靶，可以是平面非平衡磁控濺射靶，也可以是兩個柱狀磁控濺射靶，這兩個靶分別接中頻的一個極，相互之間互為陰陽極。電子在兩級間高速震蕩，碰撞氬氣電離，氬離子的密度大，金屬離化率高，容易形成化合物膜。也可以獲得絕緣膜。所以中頻電源鍍的膜層更細膩。中頻電源可以提供在這么大的靶上鍍絕緣膜，這在射頻電源來說很難做到。
英能作為深圳真空鍍膜電源廠家的其中一員，在中頻磁控濺射電源上不短改善和提升，在使用效果上達到了非同一般的成績，穩(wěn)定性和膜層致密性都有了極大的提升。歡迎大家來電咨詢：18025476062
