作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2022-12-29
脈沖偏壓電源是真空電弧離子鍍和磁控濺射鍍膜或其它真空物理氣相沉積設備的重要組成部分，在真空離子鍍膜中，尤其對于多弧離子鍍膜，無論是裝飾鍍還是工具鍍，脈沖偏壓電源的好壞對于成膜質(zhì)量都起著非常關鍵的作用。脈沖偏壓電源對裝飾鍍和工具鍍對膜層質(zhì)量的要求有相同之處又各有側(cè)重。
脈沖偏壓電源對膜層的影響機制是很復雜的，很多公司和科研機構做了大量研究，對不不同膜層和不同設備，影響的方式和結果有很大不同，下面列出了一些主要影響，可以根據(jù)自己的使用工藝，觀察總結，就可以很快摸清偏壓對膜層的影響規(guī)律。
1. 膜層結構、結晶構造取向、組織結構
2. 沉積速率
3. 大顆粒凈化
4. 膜層硬度
5. 膜層致密度
6. 表面形貌
7. 內(nèi)應力
脈沖偏壓電源對于真空鍍膜的作用非常重要，其優(yōu)點是提高真空等離子體內(nèi)帶電粒子的能量，轟擊清洗所鍍工件表面，使工件表面經(jīng)受高能粒子撞擊后得到嶄新的表層，從而提高后續(xù)沉積膜層的結合力。
英能電氣是專業(yè)制造真空鍍膜電源廠家，客戶遍及全國各地，通過研發(fā)人員孜孜不斷的提升、改善，使電源的穩(wěn)定性、性能有極大地提升，歡迎來電咨詢：18026909337（微信同號）
