作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2023-09-26
偏壓電源主要用于多弧離子和磁控濺射鍍膜過程中的輝光清洗、離子轟擊和膜層沉積時在被鍍工件上施加偏壓，在輝光清洗時，它產(chǎn)生輝光；在離子轟擊中加速離子，提高離子轟擊工件表面的能量，以達到濺射清洗效果和提高膜層結合力的目的，在膜層沉積時，它用于增加離子能量，促進和改善薄膜生長，提高膜層結合力。在多弧離子和磁控濺射鍍膜技術中。偏壓電源在磁控濺射鍍的離化率要遠低于多弧離子鍍，所以偏壓電源應用在磁控濺射鍍膜設備中的功率會更小。目前大部分鍍膜設備既配備磁控濺射靶，也配有多弧靶，選擇偏壓電源時，要以最大電流來決定。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術企業(yè)、iso9001認證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958
