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真空鍍膜之濺射靶材淺談

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真空鍍膜之濺射靶材淺談

作者:深圳市英能電氣有限公司

時間:2022-11-16

真空鍍膜工藝應(yīng)用的廣泛,作用也很強大,但是少了磁控濺射等各種靶材的助力,真空鍍膜再厲害也是空有滿腔抱負而無處施展。

1、靶材是什么?

磁控濺射靶材是一種用濺射沉積或薄膜沉積技術(shù)制造薄膜的材料。大多數(shù)濺射靶材料是金屬元素或合金,盡管也有一些陶瓷靶材可以為各種工具制造硬化的薄涂層。 

2、濺射靶材的大小
最小的靶標直徑不到1英寸(2.5厘米),而最大的矩形靶標的長度遠超過1碼(0.9米)。一些濺射設(shè)備需要更大的濺射靶。 

3、濺射靶材形狀的多樣性
濺射系統(tǒng)的設(shè)計,即進行薄膜沉積過程的機器,已經(jīng)變得更加多樣和具體。比如長圓柱體靶材,能提供額外的好處,包括更快的沉積速度、更少的熱損傷和增加的表面積,從而帶來更大的整體效用。 

4、濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域

  • 玻璃涂層
  • 光學(xué)鍍膜
  • 太陽能電池涂層
  • 半導(dǎo)體類

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