作者：深圳市英能電氣有限公司
時(shí)間：2023-03-31
真空鍍膜技術(shù)已成為電子、光電、機(jī)械等行業(yè)中不可或缺的制造工藝。它通過(guò)在材料表面上蒸發(fā)或離子鍍等方法將薄膜沉積在基材上，使其表面具有不同的光學(xué)、電學(xué)、熱學(xué)、機(jī)械等特性。而真空鍍膜靶材則是實(shí)現(xiàn)該過(guò)程的重要元素之一。
真空鍍膜靶材在制造工藝中扮演著至關(guān)重要的角色，其種類多樣，可根據(jù)基板性質(zhì)和鍍膜要求選用不同的材料。其主要分類包括：
1. 金屬靶材：如鉻、銅、鋁、鈦、鐵、銀等，在制造薄膜光學(xué)鏡片、太陽(yáng)能電池等方面廣泛應(yīng)用。
2. 濺射陶瓷靶材：如氧化物、碳化物、硫化物等，可用于制造保溫層、摩擦材料、傳熱材料等。
3. 光學(xué)薄膜靶材：如氧化物、氟化物、貴金屬、稀土元素等，用于制造高性能光學(xué)器件。
4. 復(fù)合靶材：將不同材料制成復(fù)合靶材，可用于制造多層膜、防反射膜等。
以上是常見(jiàn)的幾種真空鍍膜靶材，不同的材料在制造過(guò)程中會(huì)有不同的反應(yīng)機(jī)制和反應(yīng)速度，進(jìn)而影響到薄膜的質(zhì)量和厚度均勻度。因此，在選擇靶材時(shí)需根據(jù)具體的產(chǎn)品要求和生產(chǎn)工藝來(lái)選擇，以保證薄膜鍍層的質(zhì)量和穩(wěn)定性。
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