1.多弧離子、磁過濾電弧離子、直流磁控濺射、中頻磁控等鍍膜工藝
2.被鍍工件表面的輝光放電清洗
3.鍍膜前的離子轟擊
4.鍍膜時(shí)的離子加速
改善膜層質(zhì)量，提高膜層均勻性
具有效率高、運(yùn)行穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)
增加膜層與基體結(jié)合力，提高沉積速率
強(qiáng)大的抑弧功能，有效抑制靶面異常放電
改變沉積規(guī)則，調(diào)整膜層顏色
| 項(xiàng)目 | 型號(hào) | ||||
LDP-10/A LDP-10/B | LDP-20/A LDP-20/B | LDP-30/A LDP-30/B | LDP-40/A LDP-40/B | LDP系列電源 | |
| 輸入電壓 | 三相交流380V ±10%，50～60 Hz | ||||
| 輸出功率 | 10KW | 20KW | 30KW | 40KW | 10KW-100KW可定制 |
| A款:工作電流 | 2A-10A | 3A-20A | 4A-30A | 5A-40A | 2A-100A可定制 |
| A款:工作電壓 | 100V～1000V（空載電壓＞1000V） | ||||
| B款:工作電流 | 2A-12.5A | 3A-25A | 4A-37.5A | 5A-50A | - |
| B款:工作電壓 | 100V～800V（空載電壓＞800V） | - | |||
| 輸出頻率 | 20kHz～350kHz（常規(guī)頻率：20kHz～80kHz） | ||||
| 占空比 | 10%～80%（最大94%） | ||||
| 工作方式 | 恒壓、恒流、恒功率 | ||||
| 調(diào)節(jié)精度 | ≤1% | ||||
| 工作效率 | ≥90% | ||||
| 響應(yīng)時(shí)間 | ＜500ns | ||||
| 通訊方式 | RS485、光纖等通訊端口,MODBUS通訊協(xié)議 | ||||
| 冷卻方式 | 風(fēng)冷+水冷 | ||||
| 尺寸(mm) | 390(D)×425(W)×142(H) | 710(D)×435(W)×225(H) | 710(D)×435(W)×225(H) 810(D)×435(W)×280(H) | ||
| 安全防護(hù) | 過流、過壓、短路、過熱保護(hù)，接地保護(hù)，漏電保護(hù) | ||||
