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鍍膜前的離子轟擊

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鍍膜前的離子轟擊

作者:深圳市英能電氣有限公司

時間:2023-04-11

離子轟擊是一種常用的表面改性技術(shù),它能夠在真空鍍膜電源前進行,能夠使金屬離子發(fā)生電離,將金屬離子向一定方向轟擊出去,從而改變表面的化學(xué)成分和組織結(jié)構(gòu)。離子轟擊是一種技術(shù)成熟、應(yīng)用廣泛的表面改性方法。

離子轟擊的工作原理是:將一塊金屬樣品放在真空室中,利用高壓電場使樣品周圍產(chǎn)生電子流,形成高能量的等離子體;當?shù)入x子體放電時,由于高速運動的電子與氣體分子碰撞而產(chǎn)生大量的正負離子(注:在真空中,正、負離子可同時存在),這些正負離子與樣品發(fā)生碰撞、電離形成穩(wěn)定的化學(xué)鍵而使樣品表面發(fā)生一系列變化。

在離子轟擊過程中,發(fā)生的最主要過程是:

①產(chǎn)生離子轟擊

②轟擊金屬表面

③產(chǎn)生新的表面化學(xué)反應(yīng)

1、離子轟擊的基本原理

離子轟擊過程可以理解為一個電離過程,其基本的物理過程可表述為:

①電子從靶面逃逸到空間;

②電子與氣體分子發(fā)生碰撞;

③由于碰撞,氣體分子失去電子形成正離子或負離子。

在這個過程中,氣體分子起到了一個“陷阱”的作用。即:氣體分子被大量電子俘獲,形成帶負電的離子(注:電子可以與空穴復(fù)合形成帶正電的離子),然后這些正電離子在加速電壓下撞擊靶面,將正離子向靶表面轟擊。電子逃逸的速度非??欤h大于氣體分子逃逸的速度。由于正負離子之間存在著相互作用,因此能夠形成很強的電場,在很高的轟擊能量下(1 eV)就能將物質(zhì)原子或分子氣化,形成固態(tài)物質(zhì)或液態(tài)物質(zhì)(注:一般情況下,被轟擊物體內(nèi)部原子或分子的動能遠遠大于被轟擊物體外部物質(zhì)原子或分子的動能)。通過調(diào)節(jié)轟擊能量和轟擊角度等參數(shù)能夠?qū)υ?、分子或固態(tài)物質(zhì)進行改性。

2、離子轟擊的應(yīng)用

離子轟擊是一種常用的表面改性方法,它廣泛地應(yīng)用于金屬、合金、陶瓷和其他材料的表面改性。在材料的表面改性中,離子轟擊的應(yīng)用范圍是比較廣泛的,主要用于:

(1)提高合金材料的表面硬度和耐磨性,如銅合金、硬質(zhì)合金和鐵合金等。

(2)提高金屬和陶瓷材料的耐蝕性、耐熱性、絕緣性等。如在陶瓷中引入N,使陶瓷具有更高的硬度、耐熱、耐蝕性及良好的導(dǎo)電性等。

(3)改善金屬材料和金屬或合金表面的導(dǎo)電性,如在金屬中引入C或O,可提高其導(dǎo)電性。

(4)改善金屬或合金表面與有機化合物的相互作用,如在金屬表面鍍上有機涂層等。

(5)提高金屬和合金材料在氣相中的潤濕性和滲透性等。

3、離子轟擊方法和特點

離子轟擊的方法主要有三種:

①表面濺射法,將金屬樣品直接放在高壓電場中,產(chǎn)生等離子體,金屬離子被加速到足夠高的速度,轟擊在金屬表面。這是最簡單的離子轟擊方法。

③陽極濺射+表面濺射(雙靶)法,先將金屬樣品放入兩個電極之間形成的靶室中,在陰極上濺射一層金屬氧化物(主要是氧化鋁),然后將陰極樣品與陽極濺射(主要是鈦酸鉛)放在陰極和陽極之間形成的靶室中,以適當?shù)碾妷菏菇饘匐x子加速到足夠高的速度轟擊在陰極表面。該方法簡單、成本低、設(shè)備較少、不易污染環(huán)境、不產(chǎn)生有害氣體等優(yōu)點。

離子轟擊的特點是:①離子能量高;②轟擊速度快;③能在真空環(huán)境下進行;④可實現(xiàn)多靶同時轟擊。離子轟擊常用的是金屬靶和非金屬靶兩種靶。


深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè),已獲得高新技術(shù)企業(yè)認定,通過iso:認證,擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線:180-2547-6062

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