作者:深圳市英能電氣有限公司
時間:2023-04-17
脈沖磁控濺射是一種常用的薄膜制備技術(shù),其具有高質(zhì)量、高純度、高密度及良好的控制性能等優(yōu)點。脈沖磁控濺射電源是把直流電源轉(zhuǎn)換成為高頻交流電源的一種特殊形式,利用交流電流在磁場作用下產(chǎn)生電子密集度高的等離子體,通過等離子體將靶材表面物質(zhì)抽離并沉積于襯底上,從而形成薄膜。
脈沖磁控濺射電源饒射性特點主要表現(xiàn)在以下幾方面:
1. 穩(wěn)定性好:脈沖磁控濺射電源可以產(chǎn)生高頻電流,這使得等離子體的穩(wěn)定性更好。同時,其具有較為精確的控制系統(tǒng),可以保證濺射過程的穩(wěn)定性。
2. 濺射速率高:脈沖磁控濺射電源可以產(chǎn)生高功率的等離子體,從而使得濺射速率更快、效率更高。
3. 薄膜均勻性好:由于脈沖磁控濺射電源具有較好的穩(wěn)定性和高濺射速率,因此產(chǎn)生的等離子體能夠均勻地覆蓋靶材表面,使得形成的薄膜均勻性更好。
4. 系統(tǒng)組成簡單:脈沖磁控濺射電源由直流電源轉(zhuǎn)換而來,因此其系統(tǒng)組成比傳統(tǒng)的高頻電源更為簡單,便于維護和操作。
脈沖磁控濺射電源具有饒射性特點明顯,能夠滿足現(xiàn)代化薄膜制備技術(shù)對高品質(zhì)、高效率、高精度的要求。
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