作者：深圳市英能電氣有限公司
時(shí)間：2023-04-30
真空鍍膜濺射電源弧能量是指在真空鍍膜濺射過程中，產(chǎn)生的弧光能量大小。真空鍍膜濺射過程中，電極產(chǎn)生的弧光能量通過電子轟擊靶材表面，使靶材上的原子或分子從表面揮發(fā)并沉積到基材上形成薄膜。弧光能量大小直接影響了沉積薄膜的質(zhì)量和產(chǎn)量。
弧光能量的大小與真空鍍膜濺射電源的參數(shù)設(shè)置有關(guān)，如電壓、電流、極間距等。在實(shí)際操作中，需要根據(jù)目標(biāo)薄膜的要求和設(shè)備的實(shí)際情況，合理調(diào)整真空鍍膜濺射電源的參數(shù)，以達(dá)到最佳的弧光能量大小和沉積薄膜的質(zhì)量和產(chǎn)量
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