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真空磁控濺射技術(shù)的定義

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真空磁控濺射技術(shù)的定義

作者:深圳市英能電氣有限公司

時間:2023-05-10

真空磁控濺射技術(shù)(Magnetron sputtering)是一種利用較高能量的離子或中性粒子對固體靶材表面進行沖擊、濺射出原子或離子,并在靶材表面或基材上形成一層薄膜的方法。在真空環(huán)境下,將靶材和基材放置于磁控濺射裝置中,通過加入較高能量的離子或中性粒子,使這些離子在靶材表面上擊中,將其擊出原子或離子。通過不斷地搜集,在基材上形成薄膜。這種濺射薄膜技術(shù)可以被用于廣泛的應(yīng)用程序中,比如微電子、光學(xué)、傳感器等應(yīng)用領(lǐng)域。


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