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在真空鍍膜(磁控濺射)中,脈沖偏壓電源為什么比直流電源好?

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在真空鍍膜(磁控濺射)中,脈沖偏壓電源為什么比直流電源好?

作者:深圳市英能電氣有限公司

時(shí)間:2023-05-24

在真空鍍膜過程中,脈沖偏壓電源是一種比直流電源更為優(yōu)秀的電源。這是因?yàn)樵谡婵斟兡み^程中,脈沖偏壓電源能夠在非常短的時(shí)間內(nèi)向靶材料施加高電壓,使得靶材料表現(xiàn)出非常高的蒸發(fā)速率。這可以實(shí)現(xiàn)快速且均勻地鍍膜,提高生產(chǎn)效率。同時(shí),脈沖偏壓電源能夠提供非常高的電壓和電流,進(jìn)一步提高了鍍膜厚度和質(zhì)量。此外,脈沖偏壓電源具有一定的安全性,因?yàn)樗梢钥刂齐娫吹妮敵霾ㄐ?,避免因過度加熱等問題而引起的安全隱患??偟膩碚f,在真空鍍膜過程中,選擇脈沖偏壓電源是一個(gè)非常明智的選擇。

  深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè),主要產(chǎn)品:中頻磁控濺射電源單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源,陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源,HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證,擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線:137-1700-7958

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