PVD鍍膜中會(huì)用中頻磁控濺射電源、單極性磁控濺射電源等各種真空鍍膜電源。

PVD鍍膜的技術(shù)特點(diǎn)：

（1）利用磁控濺射電源，PVD 膜層能直接鍍?cè)诓讳P鋼以及硬質(zhì)合金上，對(duì)比較軟的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應(yīng)先進(jìn)行化學(xué)電鍍鉻，然后才適合鍍 PVD，但是水鍍后做 PVD 容易起泡，不良率較高；

（2）典型的 PVD 涂層加工溫度在250 ℃—450 ℃之間；

（3）涂層種類和厚度決定工藝時(shí)間，一般工藝時(shí)間為 3~6 小時(shí)；

（4）PVD 鍍膜膜層的厚度為微米級(jí)，厚度較薄，一般為 0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工；

（5）PVD 技術(shù)不僅提高了鍍膜與基體材料的結(jié)合強(qiáng)度，涂層成分也由第一代的 TiN 發(fā)展為TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta－C等多元復(fù)合涂層，形成不同的顏色的表面效果。

（6）目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通過控制鍍膜過程中的相關(guān)參數(shù)，可以控制鍍出的顏色；鍍膜結(jié)束后可以用相關(guān)的儀器對(duì)顏色值進(jìn)行測(cè)量，使顏色得以量化，以確定所鍍出的顏色是否滿足要求。

一個(gè)好的鍍膜效果離不開一臺(tái)好的設(shè)備，當(dāng)然也需要匹配合適的電源，我司電源在穩(wěn)定性和產(chǎn)品亮度、滅弧功能上發(fā)揮了極大的作用，目前自行研發(fā)的電源有中頻磁控濺射電源、直流磁控濺射電源、雙極脈沖偏壓電源、離子源電源、弧電源，歡迎大家的了解采購，來電可咨詢18025476062。