作者:深圳市英能電氣有限公司
時間:2023-07-07
真空鍍膜技術(shù)我們都不陌生,真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi),采用一定方法加熱待鍍材料,使之蒸發(fā)或升華,并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。
真空鍍膜電源:
1、設(shè)備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件(法蘭、密封圈等)的結(jié)構(gòu)形式,應(yīng)符合GB/T6070的規(guī)定。
2、在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應(yīng)安裝真空測量規(guī)管,分別測量各部位的真空度。當(dāng)發(fā)現(xiàn)電場對測量造成干擾時,應(yīng)在測量口處安裝電場屏蔽裝置。
3、如果設(shè)備使用的主泵為擴散泵時,應(yīng)在泵的進(jìn)氣口一側(cè)裝設(shè)有油蒸捕集阱
4、設(shè)備的鍍膜室應(yīng)設(shè)有觀察窗,應(yīng)設(shè)有擋板裝置。觀察窗應(yīng)能觀察到沉積源的工作情況以及其他關(guān)鍵部位。
5、離子鍍沉積源的設(shè)計應(yīng)盡可能提高鍍膜過程中的離化率,提高鍍膜材料的利用率,合理匹配沉積源的功率,合理布置沉積源在真空室體的位置。
6、合理布置加熱裝置,一般加熱器結(jié)構(gòu)布局應(yīng)使被鍍工件溫升均勻一致。
7、工件架應(yīng)與真空室體絕緣,工件架的設(shè)計應(yīng)使工件膜層均勻。
8、離子鍍膜設(shè)備一般應(yīng)具有工件負(fù)偏壓和離子轟擊電源,離子轟擊電源應(yīng)具有抑制非正常放電裝置,維持工作穩(wěn)定。
9、真空室接不同電位的各部分間的絕緣電阻值的大小,均按GB/T11164-1999中的4、4、6
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè),主要產(chǎn)品:中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源,陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源,HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證,擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線:137-1700-7958
備案號:粵ICP備2021088173號