作者:深圳市英能電氣有限公司
時間:2023-09-05
為了獲得理想的鍍層質(zhì)量和均勻性,一般會根據(jù)不同的靶材選擇不同的占空比。例如,在鍍金屬膜的過程中,通常要采用較低的占空比,以保證金屬沉積的均勻性和質(zhì)量。通過工藝的調(diào)節(jié)找到一個平衡點,既能滿足膜層品質(zhì),又減少工件打火頻次,提高生產(chǎn)效率。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè),主要產(chǎn)品:中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源,陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源,HIPIMS電源等。已獲高新技術企業(yè)、iso9001認證,擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領域的解決方案。咨詢熱線:137-1700-7958
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