作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2022-06-23
以離子鍍膜技術為主的真空鍍膜技術可以鍍出各種領域中所需要的具有特殊的薄膜材料，這些產(chǎn)品都是采用蒸發(fā)鍍膜或者磁控濺射鍍膜等方法來獲得，這就需要用到離子源電源和磁控濺射電源。
首先要求要薄，一般厚度是微米級納米級，現(xiàn)在是在芯片上要鍍出晶體管，電阻電容電桿等功能薄膜，這些功能薄膜要輸出要相互連結，所以要鍍導電膜，各個功能之間要相互隔離要鍍絕緣膜，所以在一個芯片上要鍍多層膜，多層的功能膜多層的導電膜多層絕緣膜，這就要求每一層都很薄，一般要求在一個?m以下。
第二：薄膜和基體的成分是不同的，可以是新的純金屬膜，合金膜，化合膜，多層膜，這層心外一是薄的，不是滲層，與基材沒有熱力學關系，不像是噴涂層和電鍍層那樣是大于10個?m以上的涂層，所以說薄膜是個很薄的新外衣，是個新的材料。
第三個要求就是要有各種特殊功能，從前面看到的各種應用領域要求薄膜可以進行光電轉換，光熱轉換/光磁存儲，吸收光/反射光/透光/濾光/導電/絕緣/點屏蔽/高硬度/高耐磨性/減摩性能，零件表面要有多彩/絢麗的裝飾功能，高端產(chǎn)品對我們是有各種各樣的特殊功能，高端產(chǎn)品對薄膜的要求：薄/新外衣/特殊功能/特定組織/晶體結構。要求致密無針孔無瑕疵，與基體結合要好，就是離子鍍膜技術，是制備高端產(chǎn)品的新技術。
為了迎合市場的各種需求，英能公司研發(fā)了各種適應各種領域的電源來滿足消費者，有能夠提高工作效率、提高產(chǎn)品亮度和穩(wěn)定性、抗磨損的離子源電源和磁控濺射電源。歡迎來電咨詢：18025476062（微信同號）
