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真空鍍膜電源

首頁 新聞中心 行業(yè)新聞 真空鍍膜電源如何控制沉積速率?

真空鍍膜電源如何控制沉積速率?

作者:深圳市英能電氣有限公司

時間:2024-03-20

  真空鍍膜電源控制沉積速率的方式主要是通過調(diào)節(jié)電源的輸出參數(shù),如電壓、電流等來實現(xiàn)的。具體來說,電源可以提供負壓電場,該電場可以控制鍍膜材料在真空鍍膜過程中的沉積速率。通過調(diào)節(jié)電源的工作參數(shù),如輸出電壓和電流的大小,可以精確控制鍍膜材料的蒸發(fā)或濺射速率,從而實現(xiàn)對沉積速率的控制。

  此外,在真空鍍膜設(shè)備中,真空鍍膜電源通常與高頻電源配合使用。高頻電源用來產(chǎn)生高頻電場,使得材料以離子形式在真空室中沉積到基底表面上,而真空鍍膜電源(負壓直流電源)則用來控制沉積速率。通過合理調(diào)節(jié)高頻電源和真空鍍膜電源的工作參數(shù),可以實現(xiàn)對薄膜性質(zhì)(如沉積速率、薄膜厚度等)的控制和調(diào)節(jié),從而滿足不同的應(yīng)用需求。

  需要注意的是,具體的控制方式和參數(shù)設(shè)置可能因不同的設(shè)備和工藝而有所差異,因此在實際操作中需要根據(jù)具體情況進行調(diào)整和優(yōu)化。

  深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè),主要產(chǎn)品:中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源,陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源,HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認證,擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線:137-1700-7958

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