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單極性脈沖磁控濺射電源的應(yīng)用領(lǐng)域介紹

作者:深圳市英能電氣有限公司

時間:2024-06-07

  單極性脈沖磁控濺射電源是一種采用矩形波電壓的脈沖電源,主要用于替代傳統(tǒng)的直流電源進行磁控濺射沉積。它的主要應(yīng)用領(lǐng)域包括:

  功能性薄膜制備:單極性脈沖磁控濺射電源能夠有效地抑制電弧產(chǎn)生,消除薄膜缺陷,并提高濺射沉積速率和膜層質(zhì)量。因此,它常被用于制備具有特定功能的薄膜,如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。

  裝飾領(lǐng)域:在裝飾領(lǐng)域,單極性脈沖磁控濺射電源可以用于制備各種全反射膜及半透明膜等,提高產(chǎn)品的外觀質(zhì)量和耐久性。

  微電子領(lǐng)域:在微電子領(lǐng)域,單極性脈沖磁控濺射電源作為一種非熱式鍍膜技術(shù),主要應(yīng)用于化學(xué)氣相沉積(CVD)或金屬有機物中,用于制備各種電子元件和半導(dǎo)體器件的薄膜材料。

  光學(xué)領(lǐng)域:在光學(xué)領(lǐng)域,單極性脈沖磁控濺射電源可用于制備增透膜、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃等,滿足平板顯示器件、太陽能電池、微波與射頻屏蔽裝置與器件、傳感器等的應(yīng)用需求。

  此外,單極性脈沖磁控濺射電源在半導(dǎo)體制造中也有廣泛應(yīng)用,用于制備金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜等。由于它能夠提高薄膜的均勻性、可控性強、沉積速度快以及廣泛的材料適應(yīng)性,因此在半導(dǎo)體行業(yè)中得到了廣泛應(yīng)用。

  總的來說,單極性脈沖磁控濺射電源在新材料制備領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景,為新材料行業(yè)的發(fā)展注入了新的動力。

  深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè),主要產(chǎn)品:中頻磁控濺射電源單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源,陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源,HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認證,擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線:137-1700-7958

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