PVD(Physical Vapor Deposition)鍍膜技術(shù)，也稱為物理氣相沉積技術(shù)，其原理主要包括蒸發(fā)和濺射兩個(gè)過程，這些過程都在真空環(huán)境下進(jìn)行，以確保薄膜的純凈度和附著力。

　　蒸發(fā)過程：通過加熱源對固體材料進(jìn)行加熱，使其升華成氣態(tài)，然后在真空腔室中沉積到基材表面，形成薄膜。這種方法可以利用電子束或電阻加熱將靶材料加熱至蒸發(fā)，蒸發(fā)的原子或分子在真空中沉積到基底上。

　　濺射過程：通過離子轟擊或者惰性氣體的幫助，使固體材料從靶材表面濺射出來，然后沉積到基材表面。濺射鍍膜則是通過在真空環(huán)境下，利用離子轟擊的方式將固體材料濺射到基材表面，形成薄膜。

　　PVD鍍膜技術(shù)的主要工藝步驟包括前處理、真空抽取、鍍膜過程和后處理。在前處理階段，目的是清潔基底，去除表面污染，提高膜層附著力。在真空抽取階段，通過真空泵系統(tǒng)抽取空氣，使真空室達(dá)到一定的真空度，通常為10^-6 torr或更低，以創(chuàng)建適宜的鍍膜環(huán)境，防止雜質(zhì)干擾。在鍍膜過程中，通過蒸發(fā)或?yàn)R射的方式將材料沉積到基材表面。在后處理階段，可能進(jìn)行熱處理、表面拋光等操作，以改善膜層性能，如硬度、耐腐蝕性等。

　　PVD鍍膜技術(shù)廣泛應(yīng)用于航空航天、電子、光學(xué)、機(jī)械、建筑、輕工、冶金、材料等領(lǐng)域，可制備具有耐磨、耐腐蝕、裝飾、導(dǎo)電、絕緣、光導(dǎo)、壓電、磁性、潤滑、超導(dǎo)等特性的膜層。隨著高科技及新興工業(yè)的發(fā)展，PVD鍍膜技術(shù)也在不斷進(jìn)步，出現(xiàn)了如多弧離子鍍與磁控濺射兼容技術(shù)、大型矩形長弧靶和濺射靶等新的技術(shù)亮點(diǎn)。

　　深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958。