離子源電源是利用氣體放電原理，將工件放置在氣體放電形成的等離子體中，通過(guò)放電粒子對(duì)工件表面進(jìn)行轟擊。氣體等離子中包含的正離子、負(fù)離子、中性粒子、自由電子、光子和自由基等粒子，通過(guò)控制氣體放電過(guò)程使等離子體轟擊工件，可以消除表面附著的一些低分子物質(zhì)，使其被電離、離解或解吸；同時(shí)其中一些高能載荷粒子所具有的豐富化學(xué)活性可以引起表面的物理形貌和化學(xué)結(jié)構(gòu)的變化，使工件得到表面刻蝕和活化作用。

顯然，利用離子源電源進(jìn)行離子轟擊清洗工藝完全不同于液體清洗，是一種比較理想的“干式清洗”處理過(guò)程，具有明顯的綠色環(huán)保工藝技術(shù)特點(diǎn)。可以對(duì)金屬、塑料、玻璃等材料表面進(jìn)行除油、活化、清洗處理，在薄膜沉積、半導(dǎo)體、紡織、精密機(jī)械等領(lǐng)域得到了較好的應(yīng)用。在鍍膜前通過(guò)離子轟擊工件，其轟擊能量可傳遞給基底的晶格原子，使晶格結(jié)構(gòu)遭到破壞，增加工件表面的微觀(guān)粗糙度，使基底的表面原子徹底裸露，提高原子的極化率，縮小了薄膜原子與基底表面原子的間距，同時(shí)增加薄膜與表面的接觸面積，有利于提高機(jī)械鎖緊力，從而極大地改善薄膜與基底間的附著力。

了解了離子轟擊的基本原理，對(duì)我們的離子源電源的使用上應(yīng)該有了更加清晰的認(rèn)識(shí)，很多人對(duì)離子源電源清晰表面還是存在著很多的疑慮，但是也有很多人意識(shí)到使用離子鍍膜的重要性，傳統(tǒng)的清洗方式真的滿(mǎn)足不了當(dāng)前不短需要提高的產(chǎn)品品質(zhì)，怎么辦，英能就是專(zhuān)門(mén)針對(duì)這種表面清洗研發(fā)了一款離子鍍膜電源，代替?zhèn)鹘y(tǒng)的清洗模式，能達(dá)到更加光滑致密的表面，目前用得比較多的是在蒸發(fā)鍍膜機(jī)上使用。如果用在濺射鍍膜機(jī)上使用，我們有常規(guī)電源直流磁控濺射電源、中頻磁控濺射電源、雙極脈沖偏壓電源、脈沖偏壓電源、弧電源、高壓脈沖電源，當(dāng)然還可以根據(jù)不同的參數(shù)需求進(jìn)行定制，如有興趣了解可以來(lái)電咨詢(xún)：18025476062。