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真空濺射鍍膜和中頻磁控濺射電源

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真空濺射鍍膜和中頻磁控濺射電源

作者:深圳市英能電氣有限公司

時間:2023-10-18

真空濺射鍍膜和中頻磁控濺射電源,在充氬氣的真空下,氬氣進(jìn)行輝光放電,這時氬原子電離成氮離子,離子在電場力的作用下,加速轟擊陰極靶材,靶材粒子被濺射出來并沉積到工件表面,濺射出來的粒子一般采用輝光放電獲得,粒子在飛向基體的過程中,和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞,使運(yùn)動方向隨機(jī),這樣沉積的膜層更均勻。濺射鍍膜普遍使用在裝飾鍍工藝上,針對濺射鍍膜我們會推薦中頻磁控濺射電源,如果靶材是金,推薦脈沖直流磁控濺射電源,通過電源穩(wěn)定的工作,確保每爐產(chǎn)品膜層均勻,品質(zhì)穩(wěn)定。

  深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè),主要產(chǎn)品:中頻磁控濺射電源單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源,陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源,HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證,擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線:137-1700-7958

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