作者：深圳市英能電氣有限公司
時(shí)間：2023-10-19
真空離子鍍和偏壓電源，在真空條件下，采用某種等離子體電離技術(shù)，使鍍料原子部分電離成離子，同時(shí)產(chǎn)生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負(fù)偏壓，這樣在深度負(fù)偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜，形成的膜層組織致密，厚度均勻，有高硬度、高耐磨性，耐腐蝕性等特點(diǎn)，這種工藝應(yīng)用的范圍廣 ，適用于各種金屬、合金以及一些合成材料，甚至絕緣材料上均可鍍膜。離子鍍的膜層細(xì)密，精密度高，廣泛應(yīng)用在工具鍍、功能性鍍膜方面，在半導(dǎo)體，模具、刀具領(lǐng)域頗受歡迎，針對離子鍍，我們推薦脈沖偏壓電源，通過脈沖偏壓電源能有效提高離子轟擊工件表面的能量，促進(jìn)和改善薄膜生長，提高膜層結(jié)合力。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958
