作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2024-05-31
單極性脈沖磁控濺射電源主要用于金屬、合金及石墨等靶材鍍制金屬膜、碳膜和部分氧化物、氮化物及碳化物膜。
磁控濺射是物理氣相沉積(PVD)技術的一種，起步于上世紀70年代，憑借高速、低溫、環(huán)保、成膜速率高等特點，磁控濺射技術應用領域日益擴展，磁控濺射設備需求隨之釋放。磁控濺射設備可用于制備金屬、半導體、絕緣體、復合銅箔等材料，在集成電路、光電子器件、超導體、通信、太陽能電池、平板顯示等領域應用前景廣闊。
隨著相關技術的進步和需求升級，磁控濺射設備將向著高精度、智能化、高效率方向升級。因此，單極性脈沖磁控濺射電源在這些領域具有廣泛的應用前景。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術企業(yè)、iso9001認證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958
