作者:深圳市英能電氣有限公司
時(shí)間:2024-06-03
PVD真空鍍膜機(jī)是一種復(fù)雜的設(shè)備,其各個(gè)部件在鍍膜過(guò)程中都起著關(guān)鍵的作用。以下是PVD真空鍍膜機(jī)的主要部件及其功能分析:
真空腔體:
功能:鍍膜過(guò)程需要在高真空條件下進(jìn)行,真空腔體是保持腔體內(nèi)高真空狀態(tài)的關(guān)鍵部分。
構(gòu)造:通常由不銹鋼或其他耐腐蝕材料制成,內(nèi)部經(jīng)過(guò)特殊處理以避免氣體泄漏。根據(jù)加工產(chǎn)品的要求,真空腔的大小可能有所不同,如直徑1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等。
連接:真空腔各部分有連接閥,用來(lái)連接各抽氣泵浦。
靶材供應(yīng)系統(tǒng):
功能:靶材是用來(lái)產(chǎn)生蒸發(fā)物或離子束的來(lái)源。
構(gòu)成:靶材供應(yīng)系統(tǒng)通常由加熱器、靶材支架和傳感器等組成,用于控制靶材溫度和靶材表面的蒸發(fā)速率。
輔助加熱系統(tǒng):
功能:在一些特殊情況下,需要額外的加熱來(lái)提高鍍膜效果。
構(gòu)成:輔助加熱系統(tǒng)一般由加熱器和加熱控制裝置組成,能夠提供額外的加熱能量。
輔助抽氣系統(tǒng):
功能:排氣系統(tǒng)為鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)的重要部分,用于將真空腔內(nèi)的氣體抽出,維持高真空狀態(tài)。
構(gòu)成:主要有由機(jī)械泵、增壓泵(如羅茨泵)、油擴(kuò)散泵三大部分組成。此排氣系統(tǒng)可能采用“擴(kuò)散泵+機(jī)械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”的組合方式。
磁控濺射裝置及電源:
功能:磁控濺射電源決定了磁控濺射工藝過(guò)程等離子體狀態(tài),對(duì)鍍膜工藝和膜層生長(zhǎng)質(zhì)量起著至關(guān)重要的作用。
類型:磁控濺射電源類型有直流電源、中頻電源和射頻電源。其中直流電源因其簡(jiǎn)單可靠、工作穩(wěn)定、功率大、沉積速率快而廣泛應(yīng)用于大面積TCO薄膜的制備。
除了上述主要部件外,PVD真空鍍膜機(jī)還可能包括基帶移動(dòng)系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等其他輔助部件,以確保鍍膜過(guò)程的順利進(jìn)行。這些部件的協(xié)同工作使得PVD真空鍍膜機(jī)能夠制備出高質(zhì)量、均勻性好的薄膜材料。
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