磁控濺射鍍膜是一種鍍膜技術(shù)，具體來說，它是將涂層材料作為靶陰極，利用氬離子轟擊靶材，產(chǎn)生陰極濺射，把靶材原子濺射到工件上形成沉積層的一種鍍膜技術(shù)。在這個過程中，涂層材料一直保持固態(tài)，不形成熔池。

　　磁控濺射鍍膜技術(shù)具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域，包括但不限于微電子領(lǐng)域、裝飾領(lǐng)域、機械加工行業(yè)、醫(yī)療領(lǐng)域和光學(xué)領(lǐng)域等。在微電子領(lǐng)域，它可以作為非熱式鍍膜技術(shù)，用于制備各種電子元件和半導(dǎo)體器件的薄膜材料，提高電子產(chǎn)品的性能和可靠性。在裝飾領(lǐng)域，它可以制備各種全反射膜及半透明膜等，提高產(chǎn)品的外觀質(zhì)量和耐久性。在機械加工行業(yè)，它可以制備表面功能膜、超硬膜、自潤滑薄膜等，提高材料的表面性能。在醫(yī)療領(lǐng)域，它可以制備醫(yī)療制品的表面涂層，提高醫(yī)療制品的性能和可靠性。在光學(xué)領(lǐng)域，它可以制備光學(xué)薄膜，如增透膜、反射膜、濾光片等。

　　磁控濺射鍍膜的過程是在真空環(huán)境下進行的，首先將待鍍膜產(chǎn)品和鍍膜材料放置于磁控濺射鍍膜機內(nèi)部的正負(fù)極兩面，然后抽空空氣并加入氣體，在電極之間加入電壓，使磁場發(fā)生作用。位于負(fù)極的鍍膜材質(zhì)在整個作用下濺射出濺射原子，濺射原子覆蓋于基層的表面之上形成沉積，最終成為特定的膜。

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　　深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958