作者:深圳市英能電氣有限公司
時間:2022-12-13
中頻磁控濺射電源是大家都比較熟知的磁控濺射電源,但是在這之前常用的是直流磁控濺射電源和射頻電源,算得上是真空鍍膜行業(yè)的一大進步,下面就來了解中頻電源有哪些優(yōu)勢。
磁控濺射之前是采用直流電源,靶材接負極。但是直流輝光放電的密度小,因此濺射的速率低,采用中頻電源,頻率有20KHZ,40KHZ、100KHZ,中頻電源的兩個極接兩個磁控濺射靶,放電以后,兩個極的極性迅速發(fā)生變化,是兩個靶的帶電粒子做震蕩運動,增加了電子與氬氣的碰撞機率,靶電流密度增大,沉積速率提高,還可以克服靶中毒獲得絕緣膜,比如氮化硅、氧化鋁。
在沉積高新技術產(chǎn)品中很多都需要鍍絕緣膜。在采用中頻電源之前,鍍絕緣膜是采用射頻電源,射頻電源的頻率是13.56MHZ,靶材是化合物靶,但是化合物的濺射速率比純金屬的速率低,另外射頻電源對人體有輻射有危害,對周圍的弱點儀器有干擾,必須有可靠的屏蔽措施,價格也比較歸而且功率比較小,做不了很大震蕩,鍍膜的功率也很小。采用中頻電源可以克服靶中毒,使反應鍍膜速率加快。
綜上所述,可以了解到中頻電源的優(yōu)勢很大,針對沉積速率這個功能的應用,英能推出的一款頻率更高的高頻中頻電源,在沉積速率和離化率方面有很大的改善。如有興趣了解來電咨詢18025476062.
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