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中頻磁控濺射電源在靶中毒方面的應(yīng)用

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中頻磁控濺射電源在靶中毒方面的應(yīng)用

作者:深圳市英能電氣有限公司

時間:2022-12-14

在磁控濺射鍍膜行業(yè)中,大家對中頻電源再熟悉不過了,但是大家對中頻電源的應(yīng)用原理還不是太清楚,今天我們就來談?wù)?a href="http://nrxx.com.cn/productinfo1.html" target="_blank">中頻磁控濺射電源可以克服靶中毒,使反應(yīng)鍍膜速率加快的現(xiàn)象。

磁控濺射中的靶中毒就是在靶面上沉積了絕緣膜,所以氬離子不能進入陰極靶材,而且陽極上也沉積的絕緣膜,電子也達到不了陽極,產(chǎn)生了陽極消失現(xiàn)象。隨著絕緣膜的加厚,靶電壓突然降低,電流突然增大,產(chǎn)生打火現(xiàn)象,使鍍膜過程停止。這些現(xiàn)象中和為靶中毒現(xiàn)象。當完全呈現(xiàn)靶中毒時,就很難恢復(fù)正常的磁控濺射過程。中頻電源可以消除靶中毒,是因為中頻電源的電極分別接在兩個孿生靶上,電子在兩個靶中間來回震蕩,電子到達了堆積了正離子的靶面時,電子可以和正離子中和,消除或減輕靶中毒,采用中頻電源要配孿生靶,所謂孿生靶也就是兩個臨近的靶,可以是平面非平衡磁控濺射靶,也可以是兩個柱狀磁控濺射靶,這兩個靶分別接中頻的一個極,相互之間互為陰陽極。電子在兩級間高速震蕩,碰撞氬氣電離,氬離子的密度大,金屬離化率高,容易形成化合物膜。也可以獲得絕緣膜。所以中頻電源鍍的膜層更細膩。中頻電源可以提供在這么大的靶上鍍絕緣膜,這在射頻電源來說很難做到。

英能作為深圳真空鍍膜電源廠家的其中一員,在中頻磁控濺射電源上不短改善和提升,在使用效果上達到了非同一般的成績,穩(wěn)定性和膜層致密性都有了極大的提升。歡迎大家來電咨詢:18025476062

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